山西哪里有Mitsubishi三菱IGBT模块现货 江苏芯钻时代电子科技供应

    晶闸管等元件通过整流来实现。除此之外整流器件还有很多，如：可关断晶闸管GTO，逆导晶闸管，双向晶闸管，整流模块，功率模块IGBT，SIT，MOSFET等等，这里只探讨晶闸管。晶闸管又名可控硅，通常人们都叫可控硅。是一种功率半导体器件，由于它效率高，控制特性好，寿命长，体积小等优点，自上个世纪六十长代以来，获得了迅猛发展，并已形成了一门的学科。“晶闸管交流技术”。晶闸管发展到今，在工艺上已经非常成熟，品质更好，成品率大幅提高，并向高压大电流发展。目前国内晶闸管大额定电流可达5000A，国外更大。我国的韶山电力机车上装载的都是我国自行研制的大功率晶闸管。晶闸管的应用：一、可控整流如同二极管整流一样，可以把交流整流为直流，并且在交流电压不变的情况下，方便地控制直流输出电压的大小即可控整流，实现交流——可变直流二、交流调压与调功利用晶闸管的开关特性代替老式的接触调压器、感应调压器和饱和电抗器调压。为了消除晶闸管交流调压产生的高次谐波，出现了一种过零触发，实现负载交流功率的无级调节即晶闸管调功器。交流——可变交流。三、逆变与变频直流输电：将三相高压交流整流为高压直流，由高压直流远距离输送以减少损耗。

    一个所述单元结构中包括5个所述沟槽101，在所述栅极结构的每一侧包括二个所述第二屏蔽电极结构。所述沟槽101的步进d1为1微米～3微米。步骤三、如图3b所示，在各所述沟槽101的底部表面和侧面形成一介质层3。如图3c所示，之后再在各所述沟槽101中填充一多晶硅层4，将所述一多晶硅层4回刻到和所述半导体衬底表面相平。步骤四、如图3d所示，采用光刻工艺将栅极结构的形成区域打开，将所述栅极结构的形成区域的所述沟槽101顶部的所述一多晶硅层4和所述一介质层3去除。步骤五、如图3d所示，在所述栅极结构的形成区域的所述沟槽101的顶部侧面形成栅介质层5以及所述一多晶硅层4的顶部表面形成多晶硅间介质层5a。步骤六、如图3d所示，在所述栅极结构的形成区域的所述沟槽101的顶部填充第二多晶硅层6，由所述第二多晶硅层6组成多晶硅栅6；所述多晶硅栅6底部的所述一多晶硅层4为一屏蔽多晶硅4a并组成一屏蔽电极结构，所述一屏蔽多晶硅4a侧面的所述一介质层3为一屏蔽介质层3a。在所述栅极结构两侧的所述沟槽101中的所述一多晶硅层4为第二屏蔽多晶硅4b并组成第二屏蔽电极结构，所述第二屏蔽多晶硅4b侧面的所述一介质层3为第二屏蔽介质层3b。

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