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    所述电荷存储层14用于阻挡第二导电类载流子从所述漂移区1中进入到所述阱区2中。多个沟槽101，各所述沟槽101穿过所述阱区2和所述电荷存储层14且各所述沟槽101的进入到所述漂移区1中；一个所述igbt器件的单元结构中包括一个栅极结构以及形成于所述栅极结构两侧的第二屏蔽电极结构，在所述栅极结构的每一侧包括至少一个所述第二屏蔽电极结构。所述栅极结构包括形成于一个对应的所述沟槽101中的一屏蔽多晶硅4a和多晶硅栅6的叠加结构，所述一屏蔽多晶硅4a组成一屏蔽电极结构。所述多晶硅栅6位于所述一屏蔽多晶硅4a的顶部，所述一屏蔽多晶硅4a和对应的所述沟槽101的底部表面和侧面之间通过一屏蔽介质层3a隔离3a，所述一屏蔽多晶硅4a和所述多晶硅栅6之间通过多晶硅间介质层5a隔离，所述多晶硅栅6和所述沟槽101的侧面之间通过栅介质层5隔离。所述第二屏蔽电极结构由填充于所述栅极结构两侧的所述沟槽101中的第二屏蔽多晶硅4b组成。所述第二屏蔽多晶硅4b和对应的所述沟槽101的底部表面和侧面之间通过第二屏蔽介质层3b隔离。所述一屏蔽介质层3a和所述第二屏蔽介质层3b的工艺条件相同且同时形成，所述一屏蔽多晶硅4a和所述第二屏蔽多晶硅4b的工艺条件相同且同时形成。

    下拉电阻r3并联在电阻r2与控制管n3之间，控制限压功能的工作与否；请再次参阅图1，限流电路300包括电阻r1和正向二极管n22，电阻r1与正向二极管n22相串联，限压电路100、控制电路200和限流电路300相并联，限制限压部分的电流大小，解决了分立器件限压电路集成在驱动输出端导通时出现的较大电流现象，不降低了工作损耗，减小了分立器件的成本、也提高了芯片使用的寿命。使用时，当lp接收到mcu的信号置高时，限压电路开始工作，a点电压被限压在设定所需要的电压u1，如希望igbt驱动输出限制在12v，此时a电压的设定u1＝12v+vbe，b点电压为u2＝12v+2vbe，终c点电压为12v，此时限压部分的支路电流被限制在(vcc-u2)/r1以下，在常规的igbt驱动中增加了限压电路的功能结构，实现了对igbt的功耗的降低，保护了igbt管，将通常分立器件实现方式的限压电路集成在芯片中，与igbt驱动电路集成在一起，节省了面积和成本，同时还能解决分立器件稳压管接在驱动输出处，当导通时较大电流的问题。虽然在上文中已经参考实施例对本发明进行了描述，然而在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构。

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