山东好的二极管 江苏芯钻时代电子科技供应

    为了实现这一点，作为示例，传导层40覆盖衬底20和沟槽22。层40例如由铝、铝-铜或铝-硅-铜制成。层40可以布置在传导界面层42上。区域302在沟槽中从层40或可能的界面层42延伸。层42例如旨在便于在层40和区域302、204、210以及可能的区域306之间形成电接触件(下面的图2a至图2f的方法)。层42可以由硅化物制成或者可以是例如由钛制成的金属层。层42可以备选地包括硅化物层和金属层，金属层覆盖硅化物层并且例如由钛制成。硅化物因此形成电接触件，而金属层提供对层40的粘附。层42可以至少部分地通过自对准硅化工艺来获得，并且硅化物然后是不连续的并且不覆盖层304的上部部分。层42的厚度推荐地小于300nm，例如小于100nm。由于区域302和沟道区域202通过上述短距离d分离的事实，可以选择沟道区域202的掺杂水平以及区域302的掺杂类型和水平来获得二极管的饱和电流密度，其在25℃时例如在1na/mm2和1ma/mm2之间。推荐地，区域202的掺杂水平在2×1016和1018原子/cm3之间。为了获得该饱和电流密度，区域302是重n型掺杂的(例如大于5×1018原子/cm3)，或者更一般地通过与沟道区域202的传导类型相反的传导类型来被重掺杂。电流密度饱和度在此由以下来确定：a)测量由大于。

    100mA,10nS,2PF,225ma,2CK105硅开关二极管35V,100mA,4nS,2PF,225ma,2CK106硅开关二极管75V,100mA,4nS,2PF,100ma,2CK107硅开关二极管90V,130mA,300mW,4nS,2PF,400ma,2CK108硅开关二极管70V,100mA,300mW,,2CK109硅开关二极管35V,100mA,300mW,,2CK110硅开关二极管90V,150mA,250mW,3nS,3PF,450ma,2CK111硅开关二极管55V,100mA,300mW,,2CK150硅开关二极管15V,Ir≤25nA,Vf≤,≤2PF,2CK161硅开关二极管15V,Ir≤25nA,Vf≤,≤2PF,2CK4148硅开关二极管75V,Ir≤25nA,Vf=1V,4PF,2CK2076硅开关二极管35V,Ir≤1uA,Vf≤,≤,2CK2076A硅开关二极管60V,Ir≤1uA,Vf≤,≤,2CK2471硅开关二极管80V,Ir≤≤,≤2PF,2CK2472硅开关二极管50V,Ir≤≤,≤2PF,2CK2473硅开关二极管35V,Ir≤≤,≤3PF,2CN1A硅二极管400V,1A,f=100KHz,2CN1B硅二极管100V,1A,f=100KHz,2CN3硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN3D硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN3E硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN3F硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN3G硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN3H硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN3I硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN3K硅二极管V,1A,f=100KHz,2CN4D硅二极管V,,2CN5D硅二极管V,,f=100KHz,2CN6硅二极管V,1A,f=100KHz,2CP1553硅二极管Ir≤≤,≤。

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