吉林好的Mitsubishi三菱IGBT模块工厂直销 江苏芯钻时代电子科技供应

    所述阱区位于所述漂移区表面。所述电荷存储层位于所述漂移区的顶部区域且位于所述漂移区和所述阱区交界面的底部，所述电荷存储层具有一导电类重掺杂；所述电荷存储层用于阻挡第二导电类载流子从所述漂移区中进入到所述阱区中。各所述沟槽穿过所述阱区和所述电荷存储层且各所述沟槽的进入到所述漂移区中；被所述多晶硅栅侧面覆盖的所述阱区的表面用于形成沟道。步骤八、采用光刻定义加一导电类型重掺杂离子注入工艺在所述多晶硅栅两侧的所述阱区的表面形成发射区。步骤九、形成层间膜、接触孔、正面金属层，所述接触孔穿过所述层间膜；对所述正面金属层进行图形化形成金属栅极和金属源极。所述多晶硅栅通过顶部对应的接触孔连接到所述金属栅极。所述发射区通过顶部的对应的接触孔连接到所述金属源极；令所述发射区顶部对应的接触孔为源极接触孔，所述源极接触孔还和穿过所述发射区和所述阱区接触。所述一屏蔽多晶硅和所述第二屏蔽多晶硅也分布通过对应的接触孔连接到所述金属源极。步骤十、对所述半导体衬底进行背面减薄，进行第二导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区的底部表面形成有由第二导电类重掺杂区组成的集电区。

    本发明涉及一种半导体集成电路制造领域，特别是涉及一种igbt器件；本发明还涉及一种igbt器件的制造方法。背景技术：半导体功率器件是电力电子系统进行能量控制和转换的基本电子元器件，电力电子技术的不断发展为半导体功率器件开拓了广泛的应用领域。以绝缘栅双极型晶体管(insulatedgatebipolartransistor，igbt)和金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet)为标志的半导体功率器件是当今电力电子领域器件的主流，其中，igbt器件是一种电压控制的mosfet和双极型三极管(bjt)的复合型器件。从结构上，igbt的结构与垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(vdmos)相似，只是将vdmos的n+衬底换为p+衬底，引入的电导调制效应，克服了vdmos本身固有的导通电阻与击穿电压的矛盾，从而使igbt同时具有双极型功率晶体管和mosfet的共同优点：输入阻抗高、输入驱动功率小、导通压降低、电流容量大、开关速度快等。由于igbt独特的、不可取代的性能优势使其自推出实用型产品便在诸多领域得到广泛的应用，例如：太阳能发电、风力发电、动车、高铁、新能源汽车以及众多能量转换领域。为了进一步降低igbt的导通压降，igbt的栅极结构从平面栅结构优化到沟槽栅结构，沟槽栅igbt将沟道从横向变为纵向。

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