服务电话:020-61086422

新闻中心

您当前的位置:首页 > 新闻中心

11

2026-07

星期 六

广州脉冲磁控溅射用途 广东省科学院半导体研究所供应

研究所对磁控溅射的等离子体调控机制开展了系统性研究,开发了基于辉光光谱的实时反馈控制系统。该系统首先通过测试靶材的纵向沉积膜厚度分布,预调整磁芯磁场强度分布以获得预设离子浓度;溅射过程中则实时监测靶材表面离子与气体离子的比例关系,

11

2026-07

星期 六

广州智能磁控溅射技术 广东省科学院半导体研究所供应

入射粒子在靶材内部经历复杂的散射,与靶原子相互撞击,将部分动量传递给靶原子,随后靶原子与周围原子发生级联碰撞,使得部分表面附近的靶原子获得足够的动能脱离靶面,实现材料的溅射。高均匀性磁控溅射方案的设计,关键在于如何控制这一过程,使

09

2026-07

星期 四

广州半导体器件加工什么价格 广东省科学院半导体研究所供应

热处理工艺是半导体器件加工中不可或缺的一环,它涉及到对半导体材料进行加热处理,以改变其电学性质和结构。常见的热处理工艺包括退火、氧化和扩散等。退火工艺主要用于消除材料中的应力和缺陷,提高材料的稳定性和可靠性。氧化工艺则是在材料表面

09

2026-07

星期 四

广州功率器件半导体器件加工 广东省科学院半导体研究所供应

半导体器件加工对机械系统的精度要求较高,精密机械系统在半导体器件加工中发挥着至关重要的作用。这些系统包括高精度的切割机、研磨机、抛光机等,它们能够精确控制加工过程中的各种参数,确保器件的精度和质量。此外,精密机械系统还需要具备高稳

07

2026-07

星期 二

广州磁控溅射流程 广东省科学院半导体研究所供应

该研究所针对磁控溅射的薄膜应力调控难题,提出了多参数协同优化策略。通过调节磁控溅射的基片偏压与沉积温度,实现薄膜内应力从拉应力向压应力的连续可调——当基片偏压从0V增至-200V时,TiN薄膜的压应力从1GPa提升至5GPa;而适

免责声明: 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息,均来源于其对应的商铺,信息的真实性、准确性和合法性由该信息的来源商铺所属企业完全负责。本站对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题,请及时与本网联系,我们将核实后进行删除,本网站对此声明具有最终解释权。

友情提醒: 建议您在购买相关产品前务必确认资质及产品质量,过低的价格有可能是虚假信息,请谨慎对待,谨防上当受骗。