服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
16
2026-05
星期 六
-
广州脉冲磁控溅射分类 广东省科学院半导体研究所供应
磁控溅射是一种常用的薄膜制备技术，其操作流程主要包括以下几个步骤：1.准备工作：首先需要准备好目标材料、基底材料、磁控溅射设备和相关工具。2.清洗基底：将基底材料进行清洗，以去除表面的杂质和污染物，保证基底表面的平整度和光洁度。3
-
16
2026-05
星期 六
-
广州平衡磁控溅射处理 广东省科学院半导体研究所供应
该研究所针对磁控溅射的薄膜应力调控难题，提出了多参数协同优化策略。通过调节磁控溅射的基片偏压与沉积温度，实现薄膜内应力从拉应力向压应力的连续可调——当基片偏压从0V增至-200V时，TiN薄膜的压应力从1GPa提升至5GPa；而适
-
15
2026-05
星期 五
-
广州反应磁控溅射处理 广东省科学院半导体研究所供应
磁控溅射技术支持涵盖设备调试、工艺优化及问题诊断等多方面内容，帮助用户解决磁控溅射过程中遇到的技术难题。技术支持团队通过分析溅射过程中的粒子行为和膜层形成机制，指导用户调整溅射参数，提升膜层质量和工艺稳定性。在实际应用中，溅射设备
-
15
2026-05
星期 五
-
广州真空磁控溅射价格 广东省科学院半导体研究所供应
磁控溅射设备是一种常用的表面处理设备，用于制备各种材料的薄膜。为了保证设备的正常运行和延长设备的使用寿命，需要进行定期的维护和检修。设备维护的方法包括以下几个方面：1.清洁设备：定期清洁设备的内部和外部，清理积尘和杂物，保持设备的
-
15
2026-05
星期 五
-
广州射频磁控溅射方案 广东省科学院半导体研究所供应
金属磁控溅射系统是一种通过高能粒子撞击高纯度金属靶材，将靶材原子溅射出来并沉积于样品表面的技术。该系统在科研院校中扮演着关键角色，尤其是在微电子、半导体、材料科学及光电领域的研究中。科研团队利用此系统能够制备出均匀且高质量的金属薄
推荐资讯