服务电话:020-61086422

新闻中心

您当前的位置:首页 > 新闻中心

18

2026-08

星期 二

广州射频磁控溅射技术 广东省科学院半导体研究所供应

在磁控溅射靶材的回收与再利用领域,研究所开发了环保型再生工艺。针对废弃靶材的成分特性,采用机械研磨与化学提纯相结合的预处理方法,去除表面氧化层与杂质,再通过磁控溅射原理进行靶材再生——将提纯后的材料作为靶材,通过溅射沉积于新的衬底

17

2026-08

星期 一

广州高温磁控溅射分类 广东省科学院半导体研究所供应

该研究所将磁控溅射技术与半导体器件封装工艺深度融合,开发了高性能金属化薄膜制备方案。针对MEMS器件的微型化需求,采用射频磁控溅射技术在硅基衬底上沉积Ti/Au复合金属层,通过控制靶基距与基片温度,使金属膜层厚度精度达到±2nm。

17

2026-08

星期 一

广州非金属磁控溅射 广东省科学院半导体研究所供应

光电材料的磁控溅射制备对工艺的精细调控提出了较高要求,不同光电功能材料对薄膜的均匀性、厚度和成分控制均有严格标准。定制化的磁控溅射服务能够针对客户特定需求,调整溅射参数,实现材料性能的发挥。广东省科学院半导体研究所具备先进的磁控溅

17

2026-08

星期 一

广州专业磁控溅射设备 广东省科学院半导体研究所供应

在科研和工业生产中,针对不同应用场景对氧化硅薄膜的性能和结构要求各不相同,定制化的氧化硅磁控溅射服务因此显得尤为重要。定制过程涵盖溅射参数的准确调整,包括靶材纯度、气体组成、功率设定及沉积速率等,以满足特定的膜层厚度、均匀度及光学

17

2026-08

星期 一

广州高温磁控溅射方案 广东省科学院半导体研究所供应

广东省科学院半导体研究所开发的磁控溅射复合涂层技术在高级装备领域展现出巨大潜力。通过将CrN基涂层与自润滑相结合,采用多靶磁控溅射系统实现分层沉积——底层通过高能脉冲磁控溅射形成高结合力过渡层,表层通过平衡磁控溅射引入MoS₂润滑

免责声明: 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息,均来源于其对应的商铺,信息的真实性、准确性和合法性由该信息的来源商铺所属企业完全负责。本站对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题,请及时与本网联系,我们将核实后进行删除,本网站对此声明具有最终解释权。

友情提醒: 建议您在购买相关产品前务必确认资质及产品质量,过低的价格有可能是虚假信息,请谨慎对待,谨防上当受骗。