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2026-08
星期 四
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广州智能磁控溅射特点 广东省科学院半导体研究所供应
提高磁控溅射设备的利用率和延长设备寿命是降低成本的有效策略。通过合理安排生产计划,充分利用设备的生产能力,可以提高设备的利用率,减少设备闲置时间。同时,定期对设备进行维护和保养,保持设备的良好工作状态,可以延长设备的使用寿命,减少
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2026-08
星期 四
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广州平衡磁控溅射设备 广东省科学院半导体研究所供应
广东省科学院半导体研究所开发的磁控溅射复合涂层技术在高级装备领域展现出巨大潜力。通过将CrN基涂层与自润滑相结合,采用多靶磁控溅射系统实现分层沉积——底层通过高能脉冲磁控溅射形成高结合力过渡层,表层通过平衡磁控溅射引入MoS₂润滑
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2026-08
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广州多功能磁控溅射 广东省科学院半导体研究所供应
在磁控溅射设备的国产化升级方面,研究所完成了部件的自主研发与系统集成。其设计的磁场发生单元采用多极永磁体阵列布局,通过有限元模拟优化磁场分布,使靶材表面等离子体密度均匀性提升40%,有效抑制了“靶中毒”与局部过热现象。配套开发的真
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2026-08
星期 四
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广州真空磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应
针对深紫外光电子器件的材料需求,研究所开展了磁控溅射制备AlN薄膜的专项研究。借鉴异质外延技术思路,在不同晶面取向的蓝宝石衬底上采用反应磁控溅射沉积AlN薄膜,并结合高温退火工艺优化晶体质量。研究发现,经1700℃退火后,c面蓝宝
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2026-08
星期 四
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广州直流磁控溅射设备 广东省科学院半导体研究所供应
在第三代半导体材料制备中,该研究所通过单步磁控溅射工艺实现了关键技术突破。针对蓝宝石衬底上GaN材料生长时氧元素扩散导致的n型导电特性问题,研究团队创新性地采用磁控溅射技术引入10nm超薄AlN缓冲层,构建高效界面调控机制。终制备

