服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
07
2026-05
星期 四
-
广州专业磁控溅射方案 广东省科学院半导体研究所供应
广东省科学院半导体研究所在磁控溅射技术的极性调控领域取得突破，其开发的双向脉冲双靶闭合式非平衡磁控溅射系统独具特色。该系统将两个磁控靶连接于同一脉冲电源，通过周期性变换靶材极性，使两靶交替充当阴极与阳极——阴极靶执行溅射沉积的同时
-
07
2026-05
星期 四
-
广州专业磁控溅射优点 广东省科学院半导体研究所供应
金属薄膜磁控溅射工艺是通过高能粒子撞击靶材表面，使靶原子获得足够动能后脱离靶面，穿过真空沉积在基板上的过程。此工艺在制备金属薄膜时，能够实现良好的薄膜致密性和平整度，适合Ti、Al、Ni、Cr、Pt、Cu等多种金属的沉积。工艺参数
-
07
2026-05
星期 四
-
广州磁控溅射流程 广东省科学院半导体研究所供应
金属磁控溅射企业的发展紧密围绕提升设备性能和工艺适应性展开。随着材料科学和半导体技术的不断进步，企业需要不断优化溅射系统的设计，提升靶材利用率和薄膜均匀性，满足更复杂的材料制备需求。磁控溅射的物理机制依赖高能粒子与靶材原子的碰撞过
-
07
2026-05
星期 四
-
广州真空磁控溅射设备 广东省科学院半导体研究所供应
广东省科学院半导体研究所开发的磁控溅射复合涂层技术在高级装备领域展现出巨大潜力。通过将CrN基涂层与自润滑相结合，采用多靶磁控溅射系统实现分层沉积——底层通过高能脉冲磁控溅射形成高结合力过渡层，表层通过平衡磁控溅射引入MoS₂润滑
-
07
2026-05
星期 四
-
广州反应磁控溅射处理 广东省科学院半导体研究所供应
磁控反应溅射集中了磁控溅射和反应溅射的优点，可以制备各种介质膜和金属膜，而且膜层结构和成分易控。此法引入了正交电磁场，使气体分子离化率从阴极溅射的0.3%~0.5%提高到5%~6%，溅射速率比阴极溅射提高10倍左右。由于目前被普遍
推荐资讯