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2026-05

星期 三

广州真空磁控溅射设备 广东省科学院半导体研究所供应

磁控溅射沉积的薄膜具有优异的机械性能和化学稳定性。首先,磁控溅射沉积的薄膜具有高密度、致密性好的特点,因此具有较高的硬度和强度,能够承受较大的机械应力和磨损。其次,磁控溅射沉积的薄膜具有较高的附着力和耐腐蚀性能,能够在恶劣的环境下

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2026-05

星期 三

广州5G半导体器件加工 广东省科学院半导体研究所供应

随着制程节点的不断缩小,对光刻胶的性能要求越来越高。新型光刻胶材料,如极紫外光刻胶(EUV胶)和高分辨率光刻胶,正在成为未来发展的重点。这些材料能够提高光刻图案的精度和稳定性,满足新技术对光刻胶的高要求。纳米印刷技术是一种新兴的光

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2026-05

星期 三

广州智能磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应

在第三代半导体材料制备中,该研究所通过单步磁控溅射工艺实现了关键技术突破。针对蓝宝石衬底上GaN材料生长时氧元素扩散导致的n型导电特性问题,研究团队创新性地采用磁控溅射技术引入10nm超薄AlN缓冲层,构建高效界面调控机制。终制备

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2026-05

星期 三

广州金属磁控溅射处理 广东省科学院半导体研究所供应

光电材料的磁控溅射制备对工艺的精细调控提出了较高要求,不同光电功能材料对薄膜的均匀性、厚度和成分控制均有严格标准。定制化的磁控溅射服务能够针对客户特定需求,调整溅射参数,实现材料性能的发挥。广东省科学院半导体研究所具备先进的磁控溅

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2026-05

星期 三

广州5G半导体器件加工平台 广东省科学院半导体研究所供应

随着增强现实(AR)和虚拟现实(VR)技术的快速发展,相关设备对半导体器件的性能和工艺提出了更高的要求。AR/VR眼镜作为连接虚拟世界与现实生活的关键载体,需要集成高精度传感器、显示驱动芯片以及低功耗处理单元,这些都依赖于先进的半

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